在这个以科技作为核心竞争力的时代，拥有先进的高新科技和技术，这无疑是发展的重要关键点所在。近几十年来，我国在科技方面的进步速度也是非常迅速，在很多科技领域上，都逐渐地追赶上了西方的步伐。中国科技的崛起，也是我国稳健的发展步伐。在一些技术领域方面的缺陷是比较明显的，由于早期我们的起步就比较晚了，所以现在想要有所提升，也许要付出更多的努力。
近期以来，在全球范围内的科技领域当中，芯片成为了热门话题。作为很多高新产业必不可少的零部件，其重要性不言而喻。就目前来看我国在高端芯片的领域当中，和世界顶尖水平还是存在着较大的差距的。在这方面最让大家头疼的其实就是芯片制造领域，我国虽然有很多的一些芯片研制能力提升，但是最主要的一个缺陷就在于光刻机的研制。但是如果仔细的来分析中国现在的发展的话，我们缺的不仅仅是光刻机，就算现在能够买进光刻机在其他方面的欠缺也还是比较明显的。除开主要的光刻机之外在光刻胶的发展上也是我们的短板，在芯片上的一些生产材料都是我们比较难以补上的。
光刻机是大家已经非常清楚的，另一种东西就是光刻胶，光刻胶是在芯片生产过程当中，关于一些细微图形加工的关键材料。它和早期的照相机冲洗胶卷其实是一样的道理，由于是一种有机化合物，在被紫外线曝光之后，就会产生变化，而我国关于芯片的研制是非常有突破的，所以即使有了这一技术，也还没有无法在这方面进行补助，所以想要自主生产芯片，困难还是比较大。由于光刻胶的分辨率远远要高于普通的胶卷，所以它是需要用显微镜才能看清楚的，这也在制造过程当中带来了更多的难题。
其它另一个难点，可能听说过的人就比较少了。我国芯片发展的另一大难题，正是被称为芯片之母的EDA。所谓的EDA，指的就是电子设计自动化，其是一种利用计算机辅助设计软件，来进行超大规模集成电路芯片的功能设计、版图、物理设计、设计规则检查等流程的技术。
除开技术之外，它的生产还涉及了专利以及保护的问题，国内的公司即使知道了它的一些配方和生产工艺，也是无法完成自主生生产的，毕竟受到了专利的保护，所以这也是我们在新品建设领域难以发展的一大原因。即使近年来我们的发展比较有优势，但是想要获得一些更好的能力成就也还是比较困难的，我们在高端制造领域难以达到标准，想有所发展就更要克服困难。
